通過蒸發鍍膜,改變鏡頭或鏡片的光學性能,如折射性能與透光性能等,具體有高反膜、增透膜、紅外膜、紫外膜、防水膜、導電膜、偏振膜、介質膜等。
可以分為薄膜電池與晶硅電池兩種路線,其中ITO靶材主要適用于N型晶硅電池中的異質結(HJT)技術路線,起到透光與導電的作用;薄膜電池的鈣鈦礦結構路線可以使用物理氣相沉積技術(PVD)達成。
液晶顯示陣列基板需要高均勻性和平坦性的薄膜,靶材要求高純、高密度及細晶。Array主要用到的靶材有ITO、Al、Mo、Cu、Ti等,CF主要用到的靶材有ITO等。
在浮法玻璃表面應用真空磁控濺射鍍一層或多層的金屬或化合物薄膜,進而改善玻璃的透光性、隔熱性等,常見材料有銀靶、硅鋁靶、鎳鉻靶、氧化鋅鋁靶等。
蒸發鍍膜設備可以分為電子束加熱、感應加熱、送絲工藝等,常見的更換器件有導熱坩堝、蒸發舟、電子槍燈絲等。